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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司

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                          GSC-1000磁控濺射系統的詳細資料

                          GSC-1000磁控濺射系統?

                          GSC-1000磁控濺射系統概述:

                          帶有水冷或者加熱(高可加熱到700度)功能,大到6"旋轉平臺,大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

                          產品特點:

                          • 不銹鋼,鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

                          • 70l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵

                          • 1KW DC直流電源

                          • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

                          • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

                          • 基于LabView軟件的PC計算機控制

                          • 帶密碼保護功能的多級訪問控制

                          • 完全的安全聯鎖功能

                            選配項:
                            Thickness Monitor   膜厚監測
                             

                            應   用:

                            • SEM應用

                            • 濺射金屬,大到6"的晶圓片

                             

                             

                             

                                                                                                                   

                          •  

                           

                           

                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。

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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司(www.darccom.com)主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。
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