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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司

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                          Minilock-Orion III PECVDPECVD沉積的詳細資料

                           

                          PECVD沉積

                          Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)系統。 系統的下電極尺寸可為200mm或300mm,且根據電極配置,可以處理單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
                          Minilock-Orion III用于有毒/發火PECVD工藝。沉積薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、無定形硅和碳化硅。工藝氣體:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、*基硅烷和甲烷。
                          該系統可選配一個三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創建高密度等離子,從而控制薄膜應力。
                          基片通過預真空室裝入工藝室,其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產品接觸,從而提高了用戶的安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而保持反應室與大氣隔絕。

                           

                           

                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。

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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司(www.darccom.com)主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。
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