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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司

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                          Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統的詳細資料

                           

                           

                          Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統采用高密度的化學氣相沉積技術,在惰性氣體進入口安裝感應線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創建等離子體,通過氣體環在襯底表面附近引入揮發性氣體。當惰性氣體與揮發性物質結合時,會發生化學反應,然后在襯底表面沉積一層薄膜.

                          該技術不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。            

                          射頻可通過Chuck改變薄膜性能。            

                          該系統可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。

                          該系統可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。

                           

                           

                           

                           

                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。

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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司(www.darccom.com)主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。
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