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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司

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                          EFC270蝕刻殘留物去除劑的詳細資料

                           

                           

                          杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除            

                          特點:

                          制定zui jia的金屬堆棧完整性  

                          “改進”寬窗口處理能力

                          強化蝕刻殘余物去除

                          清洗的掩膜減少化學殘留

                          超大規模集成電路(ULSI)級規格先進封裝清洗

                          工作溫度下蒸發速率低

                           

                          應用:        

                          應用EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應用在半導體行業,以滿足關鍵的清潔需求            

                          從高深寬比MEMS器件100μm+ 到先進DRAM 的70nm集成的各個階段

                          下面列出了常見的應用程序: 

                          • 接觸清潔            

                          • 金屬線清潔

                          • TSV深硅穿孔清潔           

                          • 鎢埋位線清洗            

                          • 聚酰亞胺清洗            

                          • Pad清潔            

                          • MEMS清洗

                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。

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                          德國韋氏納米系統(香港)有限公司(www.darccom.com)主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。
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